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Couche de base transparente 15 ml Atica

Couche de base transparente 15 ml Atica

Prix régulier €11.13 EUR
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La couche de base transparente est conçue grâce à la formule innovante Cool, un système de gels froids. Elle ne chauffe pas sous la lampe et permet une manucure confortable, aussi bien pour la prothésiste ongulaire que pour la cliente. Élastique, elle adhère parfaitement à l’ongle et ne s’écaille pas. Grâce au caoutchouc synthétique qu’elle contient, elle tient facilement jusqu’à 4 semaines sur les ongles sans se rétracter.

Nous privilégions les produits sains ! C’est pourquoi cette couche de base est formulée selon une formule unique 7 free, sans formaldéhyde, toluène, phtalate de dibutyle, camphre, résines de formaldéhyde, xylitol ni éthyl tosylamide.

Principaux avantages :
 1. Adhérence parfaite : assure une forte adhérence à la plaque de l’ongle naturel et prévient le décollement.
 2. Résistance et durabilité : grâce à ses agents filmogènes, elle forme une base résistante aux agressions mécaniques.
 3. Résistance à l’eau : protège les ongles de l’humidité, un atout particulièrement important pour une manucure longue tenue.
 4. Polymérisation rapide : durcit rapidement sous les lampes UV/LED.
5. Protection de la plaque de l’ongle : contribue à prévenir la fragilité et le dessèchement des ongles.
 6. Texture lisse : facilite l’application des couches suivantes et favorise une répartition uniforme du vernis coloré.

Conseils d’utilisation :
 • Appliquez une fine couche de couche de base sur la plaque de l’ongle préalablement préparée.
 • Polymérisez sous une lampe (UV – 2 minutes, LED – 30-60 secondes).
 • Appliquez ensuite un vernis coloré ou un gel de construction.

Ingrédients INCI : Acrylates Copolymer, Isobornyl Acrylate , Dimethicone, Cellulose Acetate Butyrate , Polyethylene terephthalate, Mica, Silica, Hydroxycyclohexyl phenyl ketone, Ethyl Trimethylbenzoyl Phenylphosphinate

Cette couche de base deviendra un incontournable pour une manucure professionnelle, en assurant la tenue, la beauté et le confort de chaque pose !

 

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